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      解決方案

      維薩拉| 為什么濕度測(cè)量在半導(dǎo)體制造中很重要

      2025/6/10 14:35:23

        Juhani Lehto

        產(chǎn)品經(jīng)理

        Vaisala

        在半導(dǎo)體制造中,沒(méi)有什么比準(zhǔn)確度更重要。從芯片制造到集成電路的最終組裝,流程中的每一步都需要精確測(cè)量,以獲得高質(zhì)量、可重復(fù)的結(jié)果。需要測(cè)量的關(guān)鍵參數(shù)之一是濕度,因?yàn)闇?zhǔn)確維持正確濕度水平對(duì)于實(shí)現(xiàn)良好的設(shè)備性能和最終產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要。

        保持良好的環(huán)境

        當(dāng)進(jìn)行納米級(jí)制造時(shí),即使是微小的偏差也可能導(dǎo)致災(zāi)難性的后果。環(huán)境條件需要進(jìn)行精確的監(jiān)測(cè)和維護(hù),因?yàn)樾酒陀∷㈦娐钒宓劝雽?dǎo)體元件極易受到水分的影響。實(shí)際上,水分是半導(dǎo)體制造流程中影響最大的污染物,預(yù)估表明,不理想的濕度條件造成的損失占收入損失的比例高達(dá) 25%。

        濕度過(guò)高會(huì)導(dǎo)致腐蝕、電氣短路、元器件質(zhì)量差以及更高的故障率。濕度過(guò)低會(huì)導(dǎo)致靜電積聚,從而損壞半導(dǎo)體表面并顯著降低生產(chǎn)產(chǎn)量。因此,精確的濕度控制至關(guān)重要,這使得可靠的傳感器成為必不可少的投資 — 這是一項(xiàng)明智的投資,影響遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于其規(guī)模或成本。高質(zhì)量的傳感器和變送器確保設(shè)備和環(huán)境保持在半導(dǎo)體制造所需的適當(dāng)范圍內(nèi)。

        半導(dǎo)體制造流程中的測(cè)量解決方案

        讓我們來(lái)看一些濕度管理至關(guān)重要的半導(dǎo)體制造流程,以及可以提供幫助的解決方案。

        硅晶圓拋光清洗

        硅晶圓拋光和清洗是半導(dǎo)體制造流程中的關(guān)鍵步驟。該流程涉及高濕度和刺激性化學(xué)物質(zhì),可能導(dǎo)致傳感器漂移,使準(zhǔn)確的測(cè)量變得更加困難。

        用于這種環(huán)境的探頭需要承受高濕度水平和刺激性化學(xué)物質(zhì)暴露。一個(gè)好的解決方案是緊湊型溫濕度探頭 HMP9,它是一款緊湊型探頭,具有非常快的響應(yīng)時(shí)間。它可以承受高濕度水平,并且還具有化學(xué)清除功能用于污染后傳感器清潔。對(duì)于設(shè)備制造商,維薩拉還提供模塊化溫濕度產(chǎn)品,例如相對(duì)濕度和溫度模塊 HMM170,這些產(chǎn)品可以集成到最終產(chǎn)品中。

        晶圓光刻機(jī)、涂膠顯影機(jī)

        對(duì)硅晶片進(jìn)行涂膠和顯影的晶圓光刻機(jī)是基于激光技術(shù)的,因此即使是微小的環(huán)境變化也會(huì)顯著影響流程質(zhì)量。環(huán)境氣壓、相對(duì)濕度和溫度都會(huì)影響光刻效果和鏡頭聚焦,因此必須實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)和補(bǔ)償。在納米級(jí)制程中,精確測(cè)量和監(jiān)測(cè)這些參數(shù)變得更加重要。

        適用于這些設(shè)備的一個(gè)良好的解決方案是模塊化維薩拉 Indigo520,它提供氣壓作為可選的測(cè)量參數(shù)。溫濕度探頭 HMP3 與 Indigo520 兼容,其結(jié)構(gòu)允許在現(xiàn)場(chǎng)更換傳感器而無(wú)需工具,因此成為潔凈室環(huán)境的理想選擇。對(duì)于需要監(jiān)測(cè)其他諸如 CO2 和露點(diǎn)等參數(shù)的工藝流程,可以使用其他型號(hào)的探頭。無(wú)論您如何選擇,探頭都可以連接到數(shù)據(jù)處理單元(例如 Indigo520),讓您可以靈活地為具體工藝流程選擇合適的組合。

        晶圓切割和探針臺(tái)

        晶圓切割流程將單個(gè)芯片從晶圓上分離出來(lái),需要準(zhǔn)確的濕度測(cè)量來(lái)保護(hù)產(chǎn)品和設(shè)備。冷凝可能是一個(gè)問(wèn)題,特別是在膠帶被剝離時(shí),因此需要仔細(xì)監(jiān)測(cè)露點(diǎn)。在探針測(cè)試過(guò)程中,芯片會(huì)承受極端的溫度變化以測(cè)試集成電路性能。該流程要求精確控制露點(diǎn)和濕度,以防測(cè)試環(huán)境中發(fā)生冷凝和生銹。

        維薩拉提供多種緊湊型產(chǎn)品來(lái)監(jiān)測(cè)和控制這些參數(shù)。DMT143 小型露點(diǎn)變送器測(cè)量范圍廣,從 -70°C 至 +60°C,可用于霜點(diǎn)和露點(diǎn)測(cè)量。另一個(gè)選件是維薩拉露點(diǎn)變送器 DMT152,它針對(duì)超干燥條件進(jìn)行優(yōu)化,可提供低至 –80°C 的霜點(diǎn)測(cè)量值,誤差為 +/–2°C。這兩款產(chǎn)品都具有自動(dòng)校準(zhǔn)功能,確保非常長(zhǎng)的校準(zhǔn)間隔,并且易于集成到 OEM 應(yīng)用中,如半導(dǎo)體制造或測(cè)試設(shè)備。

        工藝管線(xiàn)氣體質(zhì)量

        半導(dǎo)體制造中使用的潔凈室依賴(lài)于氮?dú)夂蜌鍤獾雀哔|(zhì)量、非反應(yīng)性工藝氣體。確保這些氣體的干燥性對(duì)于維持工藝環(huán)境的純度和避免敏感制造階段的潛在污染至關(guān)重要。需要監(jiān)測(cè)工藝氣體管線(xiàn)中的濕度水平,以確保準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。最好在管線(xiàn)中使用拋光不銹鋼管,因?yàn)檫@有助于確保獲得準(zhǔn)確、無(wú)污染的讀數(shù)。

        維薩拉 DRYCAP® 傳感器非常適合監(jiān)測(cè)氣體干燥度,因?yàn)樗鼈兙哂袠O快的響應(yīng)時(shí)間,可節(jié)省昂貴的氣體并在故障情況下保護(hù)流程。它們還可以自動(dòng)校準(zhǔn)以實(shí)現(xiàn)良好的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。維薩拉露點(diǎn)變送器 DMT152 是這種應(yīng)用的合適選擇,能夠提供實(shí)時(shí)、高質(zhì)量的測(cè)量結(jié)果。DMT152 應(yīng)直接安裝在氣流中,以確保獲取具有代表性的氣體樣本,并使用錐形螺紋來(lái)防止泄漏。維薩拉采樣室由拋光不銹鋼制成,確保實(shí)現(xiàn)準(zhǔn)確、高質(zhì)量的測(cè)量。

        濕度控制的重要性

        濕度控制有助于延長(zhǎng)半導(dǎo)體制造設(shè)備的使用壽命并保持最終產(chǎn)品質(zhì)量。通過(guò)在整個(gè)生產(chǎn)過(guò)程中使用高質(zhì)量的傳感器和變送器來(lái)監(jiān)測(cè)和控制濕度水平,制造商可以保護(hù)其運(yùn)營(yíng)免受與濕度相關(guān)的問(wèn)題影響,降低成本并盡可能提高產(chǎn)量。

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        Solutions for semiconductor process, facility monitoring and control

        Semiconductor wafer and microelectronics fabrication is a demanding process with little room for mistakes. The industry depends on high-performing monitoring and measurement instrumentation for precise chemical compositions and atmospheric conditions.

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