半導體勻膠顯影機一般由動力系統、顯影液槽及噴液管、水洗槽、擠壓 (水)輥、涂膠槽等部分組成，適用于半導體、化工材料、硅片、晶片、基片、導電玻璃等工藝，制版的表面顯影。

本期小明就來分享一下傳感器在勻膠顯影機中的作用~

檢測水滴/膠滴

光纖傳感器  PG1+ PT-30ML

• 選用區域對射光纖，覆蓋面積廣，即使水滴路徑有微小偏差依然在檢測區域內，可被穩定檢測
• 功率大，光軸清晰明亮，可輕松調整光軸位置
• 放大器搭載了超高速模式，微秒級響應時間，可穩定快速地進行檢測
• SET按鍵調試，使用簡便輕松

檢測晶片位置

激光傳感器  ELE-RM05N

• 晶圓傳送盒的顏色和形狀變化所產生的光量值偏差很小，需要選擇回歸反射型傳感器可進行穩定的測量，安裝反光板，減少了布線煩惱
• 光斑小，可將傳感器裝在外部，穿過孔洞對內部物料進行檢測，輕松實現識別晶片傾斜/缺料等位置不正的情況
• 激光的指向性佳，光斑小，便于安裝

控制憎水液位

液位傳感器  CE30-26NO

• 當槽管內存在氣泡時，普通的光學傳感器很可能造成誤判
• 產品防護等級IP67，防水防塵
• 傳感器固定方式靈活，可任意輕松移動檢測位置

匣盒載物臺的下限檢測

接近傳感器  ESL-T50NO

• 超薄尺寸，厚度僅有4mm，任意狹小空間均可安裝
• 采用對射檢測原理，穩定可靠
• 檢測距離達50cm，任意大小的設備場景均可使用