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        SRII重磅亮相CICD 2021,以先進ALD技術(shù)賦能第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)
        芯向
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        功率器件作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要組成部分,擁有非常廣泛的技術(shù)分類以及應(yīng)用場景。例如,傳統(tǒng)的硅基二極管、IGBT和MOSFET等產(chǎn)品經(jīng)過數(shù)十年的發(fā)展,占據(jù)了絕對領(lǐng)先的市場份額。不過,隨著新能源汽車、數(shù)據(jù)中心、儲能、手機快充等應(yīng)用的興起,擁有更高耐壓等級、更高開關(guān)頻率、更高性能的新型SiC、GaN等第三代半導(dǎo)體功率器件逐漸嶄露頭角,獲得了業(yè)界的持續(xù)關(guān)注。

        如今,在生產(chǎn)工藝不斷優(yōu)化、成本持續(xù)降低的情況下,老牌大廠與初創(chuàng)企業(yè)紛紛加碼第三代半導(dǎo)體,SiC和GaN功率器件開始投入批量應(yīng)用,并迎來了關(guān)鍵的產(chǎn)能爬坡階段。作為半導(dǎo)體制造業(yè)的關(guān)鍵參與者,業(yè)界領(lǐng)先的ALD設(shè)備制造商和服務(wù)商青島四方思銳智能技術(shù)有限公司日前重磅亮相2021年中國集成電路制造年會(CICD),向業(yè)界展示了ALD技術(shù)在功率半導(dǎo)體制造環(huán)節(jié)的創(chuàng)新應(yīng)用,共同探討新開局新挑戰(zhàn)下的行業(yè)發(fā)展新機遇。

        思銳智能受邀參加2021年中國集成電路制造年會

        ALD與GaN相得益彰,SRII本地化布局加速中國三代半供應(yīng)鏈構(gòu)建

        縱觀第三代半導(dǎo)體功率應(yīng)用,GaN無疑是率先突破的細分市場。根據(jù)Yole Développement的最新調(diào)研報告,預(yù)計2026年全球GaN功率器件的市場規(guī)模將增長至11億美元,年均復(fù)合增長率達到70%,其中手機快充等消費市場是未來2-3年的主要驅(qū)動力,新能源汽車OBC充電器、工業(yè)領(lǐng)域逆變器、數(shù)據(jù)中心高效電源等應(yīng)用則緊隨其后。

        在CICD同期舉行的“功率及化合物半導(dǎo)體”專題論壇上,思銳智能總經(jīng)理聶翔先生在演講中表示:“面對來自市場端的巨大需求,無論是外延廠還是Fab都在積極擴建當前產(chǎn)能。思銳智能作為生產(chǎn)設(shè)備供應(yīng)商,更能深切地體會到行業(yè)產(chǎn)能擴充在過去的1-2年里有著明顯的增速。對此,我們很早就推出了量產(chǎn)型ALD沉積設(shè)備——Transform™系列,廣泛布局本土功率市場,助力中國第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的產(chǎn)能擴充需求。不久前,我們成功交付了一套最新的Beneq Transform™ Lite設(shè)備給到中國市場的第三代半導(dǎo)體龍頭客戶,幫助其加速GaN產(chǎn)線的擴建。”

        聶翔闡述思銳智能在第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域的廣泛布局

        思銳智能近期成功交付Beneq TransformTM Lite設(shè)備

        據(jù)了解,思銳智能的先進ALD鍍膜工藝可顯著改善GaN器件的綜合性能、并已達到量產(chǎn)化的要求。而ALD技術(shù)能夠以一個原子的厚度(0.1nm)為精度實現(xiàn)基底表面的鍍膜,這是區(qū)別于其他沉積工藝的一大優(yōu)勢,尤其是在復(fù)雜的3D結(jié)構(gòu)上可實現(xiàn)高保形、高質(zhì)量的薄膜生長,同時ALD具有較寬的工藝窗口,也支持多種薄膜疊層鍍膜。對于SiC、GaN等功率與化合物材料,其器件3D結(jié)構(gòu)越來越復(fù)雜,對薄膜要求也越來越高,因此ALD技術(shù)成為了該領(lǐng)域的新寵。

        產(chǎn)研合作致力創(chuàng)新落地

        針對業(yè)界大熱的第三代半導(dǎo)體應(yīng)用,思銳智能不僅在GaN器件的ALD鍍膜上實現(xiàn)了量產(chǎn)化的解決方案,也在持續(xù)挖掘ALD技術(shù)之于傳統(tǒng)硅基,SiC,GaN器件的創(chuàng)新應(yīng)用潛力。例如,思銳智能旗下子公司Beneq立足于歐洲,已攜手眾多研究機構(gòu)開展以上這些領(lǐng)域的技術(shù)合作,致力于量產(chǎn)化的創(chuàng)新。“當然,我們也非常希望能夠與國內(nèi)的機構(gòu)或者行業(yè)客戶一起開展聯(lián)合研發(fā)工作,通過采用基于ALD技術(shù)的創(chuàng)新應(yīng)用,實現(xiàn)提升器件性能以及易于量產(chǎn)的目的。”聶翔表示。

        25片8寸晶圓的batch工藝條件下的產(chǎn)能情況,基于完全真實的cycle time和GPC、WiW、WtW,指標完全滿足spec要求

        與此同時,思銳智能正在不斷拓展旗下Beneq Transform™系列產(chǎn)品,進而應(yīng)對愈加復(fù)雜的半導(dǎo)體鍍膜需求,全面對標集成電路、功率與化合物半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體應(yīng)用。自2019年起,在歐洲,美國、日本、中國大陸和臺灣地區(qū)內(nèi)全球知名的半導(dǎo)體客戶量產(chǎn)線上投入使用,有著充分驗證的工藝穩(wěn)定性和設(shè)備穩(wěn)定性。同時,可以提供行業(yè)最完善的成熟量產(chǎn)工藝包,涵蓋各類氧化物、氮化物等。截至目前,Transform™系列產(chǎn)品已獲得全球多個客戶的訂單。


         

        狀 態(tài): 離線

        公司簡介
        產(chǎn)品目錄

        公司名稱: 芯向
        聯(lián) 系 人: Kelly
        電  話: 0755-82823086
        傳  真:
        地  址: 深圳市福田區(qū)濱河大道9023號國通大廈
        郵  編: 518000
        主  頁:
         
         
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