簡介

N-甲基-2-吡咯烷酮 (NMP)，化學(xué)分子式為 C₅H₉NO，目前在充電電池制造中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。它在電極漿料的生產(chǎn)中用作溶劑，溶解粘合劑材料并確保活性材料顆粒的均勻涂覆。將漿料涂在電極箔上并干燥，在此期間 NMP 蒸發(fā)，留下堅(jiān)固且粘附性良好的涂層。

應(yīng)用

鋰離子電池制造中的 NMP 回收過程確保電極生產(chǎn)階段使用的溶劑得到有效再利用。過程涉及多個階段，捕獲、純化和儲存 NMP 以供將來使用，從而盡可能減少浪費(fèi)并降低對環(huán)境的影響。

冷凝

在電極干燥過程中，隨著溶劑從漿料涂層電極中蒸發(fā)，會釋放出 NMP 蒸汽。這些蒸汽在冷凝系統(tǒng)中被冷卻并捕獲，在那里從氣態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)橐簯B(tài)。收集該液態(tài) NMP 以進(jìn)一步純化，標(biāo)志著回收過程的第一階段完成。

洗滌

冷凝后的殘余氣體就會經(jīng)歷一個洗滌過程。在此階段，氣體將流經(jīng)一個洗滌系統(tǒng)，該系統(tǒng)旨在去除污染物， 例如電極涂層過程中的殘留顆?；蛭⒘繗怏w。

精餾

洗滌后，捕獲的NMP會進(jìn)行精餾過程。通過精餾將 NMP 與殘留雜質(zhì)分離。將 NMP 加熱，再次蒸發(fā)和冷凝，將污染物完全分離，從而獲得純 NMP。這個步驟確?；厥盏?NMP 具有高純度，適合在電極制造過程中重復(fù)使用。

儲存

純化的 NMP 被轉(zhuǎn)移到儲罐中儲存，直到可以在制造過程中重新使用。儲存的溶劑還可以重新融入制造過程，確?；厥蘸驮倮玫倪B續(xù)循環(huán)。

儀器和安裝

維薩拉 Polaris 折光儀在回收過程的兩個關(guān)鍵階段監(jiān)測 NMP 濃度：洗滌塔出口/再循環(huán)管路和精餾塔出口。傳感器可以直接安裝在管道上，實(shí)現(xiàn)在線測量，以進(jìn)行實(shí)時、主動控制，從而維持目標(biāo) NMP 濃度。數(shù)字讀數(shù)始終準(zhǔn)確，不受液體中的氣泡、懸浮顆?；蝾伾兓挠绊憽?/p>

洗滌塔：

折光儀濃度測量的附加值

•    通過實(shí)時數(shù)據(jù)優(yōu)化洗滌塔效率，從而能夠精確調(diào)整運(yùn)行參數(shù)

• 減少溶劑損失并提高回收率，從而降低生產(chǎn)成本并提高可持續(xù)性

•    減少水和能源消耗，從而實(shí)現(xiàn)更可持續(xù)、更具成本效益的運(yùn)營

精餾塔：

折光儀濃度測量的附加值

•    通過微調(diào)精餾參數(shù)，提高運(yùn)營效率并降低能耗

• 確保 NMP 高純度并防止回收的 NMP 受到污染

回收 NMP 的重要性

出于經(jīng)濟(jì)和環(huán)境原因，NMP 的回收和再利用至關(guān)重要。NMP 回收的重要性源于以下幾個關(guān)鍵因素：

•    經(jīng)濟(jì)效益：NMP 是一種高價值溶劑，它的成本會對總體制造費(fèi)用產(chǎn)生重大影響?；厥?NMP 可幫助制造商降低原材料成本并提高利潤率

•    環(huán)境影響：NMP 是一種危險物質(zhì)，如果處理不當(dāng)，會對環(huán)境和健康造成危害。高效的回收利用可以控制污染，減少對環(huán)境的有害排放，從而減少對環(huán)境的危害

•    可持續(xù)性：回收 NMP 對于遵守環(huán)境法規(guī)和推進(jìn)可持續(xù)發(fā)展目標(biāo)至關(guān)重要，因?yàn)樗梢员M可能地減少浪費(fèi)、減少溶劑消耗并降低生產(chǎn)對環(huán)境的總體影響

•    安全性：NMP 是一種危險化學(xué)品，如果管理不當(dāng)，可能會對工人的健康造成危害?；厥蘸瓦m當(dāng)?shù)奶幚砜梢詼p少暴露，確保更安全的工作環(huán)境。

 儀  器  

❖ 維薩拉 POLARIS PR53GC 在線折光儀

適用于各種工業(yè)應(yīng)用。特殊合金材質(zhì)可滿足嚴(yán)苛的環(huán)境要求。L 形卡箍連接為管道安裝提供便捷選擇。有多種流通池可供選擇。

❖ 維薩拉 POLARIS PR53GP 在線折光儀

是一款具有無焊接機(jī)身結(jié)構(gòu)的儀表，適用于多種用途。利用標(biāo)準(zhǔn)法蘭直接安裝到管道或儲罐中。

❖ INDIGO520 與在線折光儀配合使用

通過兼容的 Indigo 儀表擴(kuò)展維薩拉 Polaris 在線折光儀的功能，包括數(shù)據(jù)記錄、清洗控制和設(shè)置、測量參數(shù)、診斷和服務(wù)更新。

❖ 測量范圍

折射率 (nD) 為 1.3200-1.5300（相當(dāng)于 0-100%，質(zhì)量百分比）。

NMP 濃度的折射率 （質(zhì)量百分比）。